CYMER XLA 系列

ASML 旗下的 CYMER XLA 系列光刻机，就像一位 “精密雕刻师”，凭借顶尖技术为芯片 “绘制” 微观电路，撑起高端芯片生产的关键环节。
193nm ArF准分子激光器XLA系列，是ASML TWINSCAN系列光刻机的核心部分，利用极紫外光（EUV）技术，将芯片设计图上的电路图案精准投射到硅片上，形成纳米级的电路结构。CYMER XLA系列能实现超高精度的图案曝光，支持 7 纳米及更先进制程芯片的生产，比如我们常用的高端智能手机芯片、人工智能服务器芯片，不少都依赖它完成关键制造步骤。