CYMER ELS6000系列

CYMER ELS 6000 是Cymer品牌推出的一款深紫外(DUV)准分子激光光源，主要用于先进半导体芯片制造中的光刻工艺。采用氪氟(KrF)准分子激光技术，输出波长为248nm，适配深紫外光刻设备，主要用于28nm及以上技术节点的芯片制造，支持逻辑芯片、存储芯片等的图形化制程。具备高输出功率、高稳定性和长使用寿命，可满足大规模半导体量产对光刻精度与效率的需求。