CYMER ELS7000系列

CYMER ELS7000系列，满足 100 纳米以下光刻应用需求。
技术先进的 ELS-7000系列可满足 248 纳米曝光设备大规模生产 0.10 微米以下（即 100 纳米以下）器件的需求。该设备能为芯片制造商提供 4 千赫兹（4 kHz）、40 瓦（40 W）的光输出，同时具备超窄带宽性能与高速波长控制功能。ELS-7000系列的设计融入了先进架构与材料，大幅降低了光源的运行成本。